フォトマスク自動検査システムの共同開発を開始

大日本印刷巧テクノロジーフォトマスク自動検査システムの共同開発を開始
半導体メーカーとの連動により、最先端フォトマスクのコスト低減と納期短縮を目指す。

大日本印刷株式会社（以下DNP）は、米国巧テクノロジーコーポレーション（以下:巧テクノロジー）と共同で、半導体メーカーから求められる品質精度のレベルに対応してフォトマスク検査および欠陥分類を自動的に行うシステムの開発を開始します。

【背景】
90nm（ナノメートル）から、65nm、45nmといった半導体回路パターンの微細化に伴い、フォトマスクコストの上昇、納期の長期化などが課題とされています。これらの課題に対応するためには、フォトマスクメーカーの製造プロセスの改善だけではなく、半導体メーカーとの連携をより強化して、半導体製造プロセス全体を改善する取り組みが必要となっています。

このような状況の中、最先端フォトマスクで業界トップの地位を獲得しているDNPと、フォトマスクの欠陥判定や、欠陥の規模による分類を高速で行えるソフトウエアを開発している巧テクノロジーが協力し、半導体メーカーと連動したフォトマスク自動検査システムを開発することとしました。

【共同開発の内容】
現在、フォトマスクは、全面検査および全面無欠陥という厳しい品質が求められています。しかし、半導体メーカーの要求基準の中には、製品に重大な影響を及ぼすレベルのものから、性能にほとんど影響のないものまで含まれています。したがって、完全な無欠陥を追及することが、価格上昇の要因のひとつともなってきています。

今回開発するシステムは、半導体メーカーが、今まで通りの無欠陥の品質が必要な部分、半導体の性能に影響が無い、もしくは低い部分など、フォトマスクの部分ごとに精度要求のランク付けを行います。このランク付けした情報と、巧テクノロジーのフォトマスク検査ソフトウエア『design driven defect analyzer』の結果を重ね合わせることで、精度要求に合わせた検査を自動的に行います。

このシステムを利用することで、これまで性能的には問題が無くても欠陥品とされていたフォトマスクが利用でき、歩留まりの向上や検査コストの削減などにより、フォトマスク価格の上昇の抑制が可能になります。また、生産性の向上や自動化による検査時間の短縮などにより、納期の短縮が可能になります。

【今後の予定】
DNPと巧テクノロジーは、この自動検査システムを2008年3月までに開発する予定です。DNPは、このシステムを無料で半導体メーカーに提供し、利用を促進することで、半導体メーカーとの連携を強化し、フォトマスク製造におけるさらなるコスト削減、納期短縮に取り組んでいきます。

大日本印刷について
大日本印刷株式会社（本社：東京都社長：北島義俊 資本金：1,144億円）は、グループの年間売上1兆5,075億円、従業員数約35,000名の世界最大規模の総合印刷会社です。出版印刷、商業印刷、ICカード、ネットワーク事業、エレクトロニクス関連部材など幅広いビジネスを展開しています。エレクトロニクス分野においては、液晶ディスプレイ用カラーフィルターなど各種ディスプレイ部材や、フォトマスク、プリント配線基板など半導体部材の製造を行っています。特に、印刷技術を使った最先端フォトマスクでは世界最大手になります。

巧テクノロジーについて
巧テクノロジー（本社：米国カリフォルニア州サニーベール市、社長：Aki Goto、資本金：$14,5M）は日本、オランダに子会社を持ち、約50名の社員を有します。”Criticality Aware”と言う独自のDFMコンセプトに基づき2003年10月の設立以来、日本を中心とする大手半導体メーカ各社との共同開発プロジェクトを経て、OPCの処理時間短縮ツールや、レイアウト最適化ツール等、デザインおよび製造工程の異なるステップに対する幾つかのユニークなソフトウェアを商品化するに至りました。